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產品圖片	產品名稱/型號	產品簡單介紹
	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300Å，特別適用于SEM樣品的鍍膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。
	500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
	300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀	VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸發管式爐	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達20ºC/S 。溫控系統為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀是一款經過CE認證的緊湊型等離子鍍膜機。本機是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。它的特別之處是在一個真空室內設計安裝了三個靶。旋轉樣品臺，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復合膜樣品制備，及非導體材料實驗電極制作。

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