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產(chǎn)品名稱:
脈沖激光沉積
產(chǎn)品型號:
PLD
產(chǎn)品展商:
MTI
產(chǎn)品價格:
0.00 元
簡單介紹
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據(jù)實驗要求設(shè)計制作該款設(shè)備以適應(yīng)各類薄膜研究的需要。
我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000的環(huán)境體系要求
脈沖激光沉積的詳細介紹
| 產(chǎn)品型號： |
脈沖激光沉積PLD
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| 產(chǎn)品簡介： |
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據(jù)實驗要求設(shè)計制作該款設(shè)備以適應(yīng)各類薄膜研究的需要。
我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000的環(huán)境體系要求），不會造成環(huán)境污染；
該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
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| 主要特點： |
1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；
2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制；
4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；
5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
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| 技術(shù)參數(shù)： |
電源：單相50/60Hz 220v
加熱(功率)電源：2.5KW 16A
控制柜電源空氣開關(guān)：25A空氣開關(guān)
薄膜生長室溫度：室溫1200℃
靶材轉(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)速20-30轉(zhuǎn)/分
質(zhì)量流量控制器的標定：氮氣
質(zhì)量流量控制器的流量范圍：0-500sccm
機械泵抽氣速率：4L/S
薄膜生長室真空度：5min 約40mtor，20min 約15mtor，極限真空10mtor
爐腔內(nèi)徑：45mm
極熱溫區(qū)：200mm
恒溫區(qū)長度：約100mm
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| 產(chǎn)品規(guī)格： |
凈重： |
| 可選配件： |
103高真空系統(tǒng)、供氣（混氣）系統(tǒng)、各種高純氧化鋁坩堝及石英坩堝、雙級旋片機械泵、高純度剛玉及石英爐管等
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| 產(chǎn)品證書： |
 CE認證 |
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