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上海理儀自控科技有限公司
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PCB 蝕刻液再生控制系統(tǒng)

作者：meacoo 標(biāo)簽：自動(dòng)加藥控制系統(tǒng)

——FeCL3蝕刻溶液再生自動(dòng)監(jiān)控系統(tǒng)
一、工藝介紹
      xxx 電子（杭州）有限公司蝕刻車(chē)間使用的蝕刻溶液為FeCL3溶液，工作溫度在40-50℃左右。蝕刻的基板材料主要為銅或不銹鋼。原有的工藝，對(duì)
HCL的濃度、比重（SG）和氧化還原電位（ORP）測(cè)量均采用手工分析來(lái)進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)FeCL3蝕刻溶液再生所添加的HCL、水和NaCLO也是通過(guò)手動(dòng)來(lái)完
成。同時(shí)，我們實(shí)地現(xiàn)場(chǎng)考察發(fā)現(xiàn)，原來(lái)的加藥管路和容量存在著嚴(yán)重的不匹配性。
   不難理解，原有的工藝在分析測(cè)量環(huán)節(jié)存在著嚴(yán)重的滯后性，很難及時(shí)、有效、準(zhǔn)確地指導(dǎo)生產(chǎn)。添加藥劑環(huán)節(jié)也同樣存在嚴(yán)重的盲目性（要完全依賴(lài)操作者的經(jīng)驗(yàn)來(lái)指導(dǎo)作業(yè)），很容易出現(xiàn)加過(guò)量或不足的現(xiàn)象，產(chǎn)生整個(gè)工藝流程的大幅波動(dòng)。直接影響生產(chǎn)的品質(zhì)和產(chǎn)能。大量案例證明采用了我公司研發(fā)的蝕刻液再生控制系統(tǒng)之后，完全避免了上述問(wèn)題的存在。

二、改造任務(wù)
    按xxx 電子（杭州）有限公司蝕刻生產(chǎn)工藝的新要求，蝕刻液再生控制系統(tǒng)對(duì)FeCL3蝕刻溶液中的HCL濃度、比重（SG）和氧化還原電位（ORP）實(shí)施全天候在線監(jiān)測(cè)，并通過(guò)反饋閉環(huán)自動(dòng)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)添加HCL、水和NaCLO藥劑。保證FeCL3蝕刻溶液在一個(gè)穩(wěn)定、可控、高效的環(huán)境下再生循環(huán)利用。

三、蝕刻液再生控制系統(tǒng)項(xiàng)目構(gòu)成

       1、控制目標(biāo)：
                HCL調(diào)節(jié)范圍                                       0.4-1N

       比重（SG）調(diào)節(jié)范圍                        1.300 – 1.500
       氧化還原電位（ORP）調(diào)節(jié)范圍     580 – 640mv

        2、測(cè)量方式：在線自動(dòng)監(jiān)測(cè)

        3、測(cè)量點(diǎn)：   HCL、比重、ORP各兩個(gè)點(diǎn)

        4、控制方式：閉環(huán)PID（比例-積分-微分）控制

        5、藥劑添加方式：手動(dòng)或自動(dòng)

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