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深圳市科晶智達科技有限公司

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冷水機組、真空及供氣系統下的更多分類

供氣系統

冷水機組

產品列表

產品圖片	產品名稱/型號	產品簡單介紹
	16L/min電動循環冷水機	EQ-CW5000DI is a CE certified Thermolysis Water-cooled Chiller that provides a clean, reliable source of temperature-controlled fluid for both open tanks and closed loop systems up to 16L/min. EQ-CW5000DI是CE認證的Thermolysis水冷式冷水機組，可為開式儲罐和閉環系統提供清潔，可靠的溫控流體源，*高可達16L / min。它消除了結垢，污水處理成本和自來水冷卻費用。這款6升冷水機組以低成本提供高冷卻能力，并具有方便的數字讀數和設置顯示。
	10L/min風冷循環冷水機	EQ-CW3000AG is CE certified Thermolysis Water-cooled Chiller that provides a clean, reliable source of temperature-controlled fluid for both open tanks and closed loop systems up to 10L/min. It elimin EQ-CW3000AG是經CE認證的Thermolysis水冷式冷水機組，可為開式儲罐和閉環系統提供清潔，可靠的溫控流體源，*高可達10L / min。它消除了結垢，污水處理成本和自來水冷卻費用。這款9升冷水機組以低成本提供高冷卻能力，并具有方便的數字讀數和設置顯示。
	冷水機	EQ-KJ3000是參照國際先進散熱型冷卻系統設計制造的通過CE認證的專業冷水機，9L的水箱容量可以很好的冷卻加熱設備，這是一款使用方便又經濟的冷水機。
	QL-500精密氫氣發生器	QL-500是一款緊湊，重量輕，節省成本效益，能源節約型的先進的氫氣發生器。它可以在不加任何堿性物質的情況下通過電解純凈水產生超高純度的氫氣。它可以連續地產生高純度的氫氣，速率可達到500 ml/min，并有數字顯示計顯示流量，調節閥調節流量，超壓**保護裝置。這款氫氣發生器是材料研究，熱處理，氣相色譜分析中用來產生氫氣的理想設備。
	精密液體氣相發生器	LVD-F1是一款專門針對實驗室中CVD實驗中導入液體的一套系統，其液體流量是通過一數字液體泵來控制，*大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統后，被系統里的加熱裝置加熱成蒸汽，然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體，比如ETOH, SnCl4, TiCl4r, SiHCl3, 和Zn(C2H5)2，還有多種有機物混合。對于研究用CVD方法生長納米線和薄膜LVD-F1是一款優良的研究設備。
	GSL-4Z四通道質子流量計控制系統(控制面板為觸摸屏）	GSL-4Z是一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜*大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將管式爐置于移動柜上以節約空間。各通道氣路的流量設定和狀態顯示都集中在一6"的觸摸屏上，同時可以實時查看氣體流量曲線和數據。此款設備廣泛的用于材料界中CVD實驗和各種材料的退火實驗。
	GSL-4Z混氣系統4路質子	GSL-4Z可以用于控制一種到四種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架上，管式爐可以放在GSL-4Z的上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥。結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
	GSL-3F-SS-PTFE防腐型3路浮子混氣系統	GSL-3F-PTFE是一款三通道防腐蝕型混氣系統，氣體通過的所有部分全部都是由聚四氟乙烯材料制作（閥、管道、混氣罐和浮子流量計），此款設備設計專門針對于需要通入腐蝕性氣體（如H2S、H2Se）的CVD實驗。
	GSL-2Z混氣系統2路質子	GSL-2Z可以用于控制一種或兩種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架上，管式爐可以放在GSL-2Z的上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥。結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
	GSL-3F混氣系統3路浮子	這種氣路控制系統適用于控制一種到三種氣體的通入，管式爐可以放在它上面，結合科晶集團的管式爐，它可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響。
	DFN-500精密氮氣發生器	EQ-DFN-500是一種小型高純度氣體發生器，它產生氣體的速率可以達到500 ml/min，并且氣體的純度>99.999%，它是化學和材料實驗室的理想設備。

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