產品詳情
簡單介紹：
開啟式RTP快速升降溫退火爐，是由我公司自主研發的高性能熱處理設備。本產品采用國際先進制造工藝，造型新穎結構合理，爐體上下兩半設計，可自由打開閉合，**可靠，爐管外徑150mm，爐膛采用高純氧化鋁纖維材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高溫保護涂層，既能降低熱量損耗，還能提高爐內溫度穩定性。試驗樣品放置于密封的石英管內，內部潔凈度高，可降低間接污染的可能。已廣泛用于半導體器件研發及生產等領域，該系統可滿足離子注入后的快速退火，也可用于歐姆接觸快速合金，還可用于硅化物合金退火，氧化物生長，以及銅銦鎵硒光伏應用中的硒沉積等快速熱處理工藝場合。本產品采用紅外加熱，升溫速度快達30℃/S，爐體下部配有軌道，可左右移動至底部風扇處，以達到快速冷卻的目的。
詳情介紹：
| RTP快速升降溫退火爐 MXG1200-150-SL-RTP | ||
| 開啟式RTP快速升降溫退火爐，是由我公司自主研發的高性能熱處理設備。本產品采用國際先進制造工藝，造型新穎結構合理，爐體上下兩半設計，可自由打開閉合，**可靠，爐管外徑150mm，爐膛采用高純氧化鋁纖維材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高溫保護涂層，既能降低熱量損耗，還能提高爐內溫度穩定性。試驗樣品放置于密封的石英管內，內部潔凈度高，可降低間接污染的可能。已廣泛用于半導體器件研發及生產等領域，該系統可滿足離子注入后的快速退火，也可用于歐姆接觸快速合金，還可用于硅化物合金退火，氧化物生長，以及銅銦鎵硒光伏應用中的硒沉積等快速熱處理工藝場合。本產品采用紅外加熱，升溫速度快達30℃/S，爐體下部配有軌道，可左右移動至底部風扇處，以達到快速冷卻的目的。 | ||
| 技術參數 | ||
| 項目 | 主要技術指標 | 數據 |
| 規格型號 | TF1200-150-SL-RTP | |
| 溫度控制 | *高溫度點 | 1200℃ |
| 額定溫度 | 1100℃ | |
| 穩定狀態溫度范圍 | 200-1050℃ | |
| 溫度測量精度 | ±0.2℃ | |
| 溫度控制重復性 | ±1℃ | |
| 溫度控制**度 | ±1℃ | |
| 溫度均勻性 | ±2℃ | |
| 溫度狀態工藝時間 | 7-32 S（200-1050℃） | |
| *快升溫速率 | 30℃/S（可按需定制） | |
| 降溫速率 | 1-200℃（將試樣移出加熱區域或通氮氣可加快降溫） | |
| 溫度控制模式 | 智能模糊PID全閉環控制 | |
| 觸摸屏 | 尺寸 | 7寸LCD 工控 |
| 物理指標 | *大功率 | 27 Kw |
| 額定電壓 | AC380V，50/60Hz | |
| 測溫元件型號 | K型熱電偶 | |
| 石英管規格 | Φ150*1500 | |
| 真空度 | 選配分子泵真空度可達6*10-3Pa | |
| 抽氣端口尺寸 | KF40或Φ6mm | |
| 進氣端口尺寸 | Φ6mm | |
| 冷卻方式 | 自然冷卻或強迫風冷N2或壓縮空氣：2psi（0.14kg/cm2）– 7psi（0.5kg/cm2） | |
| 外形尺寸 | 深600*寬1520*高700 | |
| 設備重量 | 100Kg | |
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