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- 產品名稱：VBF1200X-H8 水平真空箱式爐
- 產品型號：VBF1200X-H8
- 產品展商：MTI
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簡單介紹
VBF-1200X-H8 真空管式爐在美國通過CE認證，其水平位置帶有一個外口徑200mm深度340mm的石英內膽，在真空或各種氣氛下溫度可達到1100℃，可對6〞以下的半導體晶片進行煅燒或低溫退火。該爐體表面溫度低、升降溫速率快、節能等優點，比一般的真空箱式爐更潔凈，真空度能達到更高，是高等院校、科研院所的實驗室、工礦企業對金屬、非金屬及其它化合物材料進行燒結、融化、分析而研制的的理想設備。
產品描述
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產品型號：
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VBF-1200X-H8
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產品簡介：
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VBF-1200X-H8 真空管式爐在美國通過CE認證，其水平位置帶有一個外口徑200mm深度340mm的石英內膽，在真空或各種氣氛下溫度可達到1100℃，可對6〞以下的半導體晶片進行煅燒或低溫退火。該爐體表面溫度低、升降溫速率快、節能等優點，比一般的真空箱式爐更潔凈，真空度能達到更高，是高等院校、科研院所的實驗室、工礦企業對金屬、非金屬及其它化合物材料進行燒結、融化、分析而研制的的理想設備。
我公司供應的產品符合國家有關環保法律法規的規定（含采購商ISO14000環境體系的要求），不會造成環境污染；
該產品符合含采購商OHSMS18000職業**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產品的人員健康造成傷害！
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主要特點：
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高品質摻鉬鐵鉻鋁合金作為發熱元件，可加熱到1100℃
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高精度不銹鋼針閥和真空表及真空法蘭可直接使用
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不銹鋼真空法蘭帶有高溫O型硅膠圈
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內置30段可編程精密數字溫度控制器**控制加熱速率，降溫速率和恒溫時間。
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技術參數：
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2 工作溫度：1000℃（*高連續使用溫度1000℃，極限*高使用溫度1100℃*多30分鐘）
2 加熱元件：高質量的Ni-Cr-Al電阻絲，可加熱到1100℃
2 爐管尺寸：8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L
2 加熱范圍：7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter)
2 控溫方式：智能化30段可編程控制
2 恒溫精度：±2℃
2 工作電源：單相208-240 VAC 50/60HZ
2 外型尺寸：510 x 435 x 425mm
2 凈重：80KG
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細節描述：
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點擊查看
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點擊查看（標配）
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點擊查看（選配件）
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在爐子腔體前放入石英爐堵，可避免熱輻射損壞O型硅膠密封圈
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石英平臺，在常溫下實驗，用KF25接口，4L機械泵抽30分鐘，真空度達到20mtorr，經過15小時后真空度漏到738mtorr。
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石英平臺由極高純度石英構成，可在1200℃下工作，適合于VBF-1200X-H8真空管式爐
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坩堝Φ110（選配件）
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坩堝Φ140（選配件）
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可根據客戶要求特殊定做
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可根據客戶要求特殊定做
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產品規格：
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外形尺寸：510 x 435 x 425mm
凈重：80KG
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產品證書：
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 CE認證
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