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CVP21型全自動電化學CV分布測試儀
CVP21型全自動電化學CV分布測試儀是用來測量半導體材料的摻雜濃度曲線的有力工具。通過測量電化學電容電壓分布（ECV分布,CV分
布），為半導體產業的研究和生產提供了簡單，快捷的測試手段。本設備更是半導體光輔助電化學腐蝕研究的選擇。
CVP21 立式機（僅占地60*80cm ）
CVP21 是一套完整的解決方案
CVP21 支持幾乎全部半導體材料
? 四族半導體Silicon (Si), Germanium (Ge), Silicon Carbide (SiC), 或
? 三五族化合物半導體Gallium Arsenide (GaAs), Indium Phosphide (InP),
Gallium Phosphide (GaP), ..., 或
? 三元三五族化合物半導體Aluminum Gallium Arsenide (AlGaAs), Gallium
Indium Phosphide (GaInP), Aluminium Indium Arsenide (AlInAs) ..., 或
? 四元三五族化合物半導體Aluminum Gallium Indium Phosphide
(AlGaInP), ..., 或
? 氮化物, Gallium Nitride (GaN), Aluminum Gallium Nitride (AlGaN), Indium
Gallium Nitride (InGaN) or Aluminum Indium Nitride (AlInN), 或
? 二六族化合物半導體Zinc Oxide (ZnO), Cadmium Telluride (CdTe), Mercury
Cadmium Telluride (HgCdTe, MCT)..., or
? 及其他常見，不常見的半導體材料。
CVP21 支持幾乎全部樣品范圍
? 疊層結構
? 樣品基底無限制
? 樣品尺寸: 4*2 mm2 到完整的8 寸晶圓（同時可提供測試更小樣品的附件）
CVP21 支持完整的測試范圍
? 載流子濃度測量范圍:< 1012 cm-3 至> 1021 cm-3。
? 深度解析范圍1 nm 至100 um
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