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真空鍍膜機的原理介紹
日期：2025-11-25 14:49
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摘要：
真空鍍膜機用于在真空條件下，采用電阻式蒸發源的形式，對石英晶片蒸鍍一層導電膜，通常為鉻和
銀，使其形成電極，以便被作成各種頻率的石英晶體振蕩器，真空鍍膜機可適用于表晶晶振器和高頻振器的廠家。
其特點為：
１．整個鍍膜過程是在真空、恒溫、自動控制中進行的，保證了膜層的均勻性、一致性及膜層的牢固度。
２．在連續高溫烘烤的環境中，18個工位的夾具連續60-120度翻轉，夾具定位準確，無噪音、無卡滯現象，確保一次蒸鍍的6048個晶片上每個被鍍表面蒸鍍上均勻、牢固的膜層。
３．真空室結構設計緊湊、合理、可靠性好。
４．真空控制選用可編程控制器及石英晶體膜厚速率監控儀，可分層控制膜層厚度，當膜層達到一定厚度時，蒸發源擋板自動關閉并監測蒸發速度，實現真空控制自動化。