產品詳情
簡單介紹：
真空鍍膜機ei-5z是用于在半導體或特種材料的基板上進行多種金屬或合金以及ITO材料真空鍍膜的批處理式高真空蒸發鍍膜設備。
進口真空鍍膜機ei-5z日本ULVAC高真空蒸發鍍膜設備可通過觸摸屏進行集中操作控制,自動完成從真空排氣至鍍膜的所有過程,適用于研究開發及小批量生產。
進口真空鍍膜機 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發鍍膜設備
詳情介紹：
真空鍍膜機 ei-5z
日本ULVAC
高真空蒸發鍍膜設備
日本原裝進口
日本ULVAC
高真空蒸發鍍膜設備
日本原裝進口
進口真空鍍膜機 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發鍍膜設備是用于在半導體或特種材料
的基板上進行多種金屬或合金以及ITO材料真空鍍膜的批處理式高真空蒸發鍍膜設備。
的基板上進行多種金屬或合金以及ITO材料真空鍍膜的批處理式高真空蒸發鍍膜設備。
進口真空鍍膜機 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸發鍍膜設備可通過觸摸屏進行集中操
作控制,自動完成從真空排氣至鍍膜的所有過程,適用于研究開發及小批量生產。
作控制,自動完成從真空排氣至鍍膜的所有過程,適用于研究開發及小批量生產。
特點:
y可同時安裝電子束蒸發源和電阻加熱式蒸發源 ;
y能夠適合垂直入射的蒸發鍍膜工藝 ;
y設備適合穿墻式安裝設置方式 ;
y設備采用全自動控制的運行方式、高效、穩定。
【規格】
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型號
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Ei-5Z
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1. 基板
1) 材料
2) 尺寸規格
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?硅(Si)、砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)、玻璃(Glass)、陶瓷(Ceramic)等
?Φ2 ~8inch圓片及各種形狀的基板
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2. 真空條件
1) 前級泵
2)主泵
3) 極限壓強
4) 排氣速度
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?油旋片泵(型號:EC-803) 排氣速度:1340/1600L/min at 50/60Hz
?低溫泵(CRYO-U16P) 排氣速度(N2):5000L/sec
?3.0×10-5Pa 或更低 ?20分鐘內達到 3.0×10-4 Pa
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3. 成膜
1) 蒸發源
2) 基板保持架
3) 膜厚均勻性
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?電子束蒸發(10kw,16kw), 熱阻蒸發 / 擋板共用
?公轉盤,行星盤
?基板內、基板間Φ2~8inch均在±5%以內
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4. 基板加熱
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?紅外燈加熱 (*高350°C)
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5. 操作模式
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?GPCS-2700 觸摸屏控制: PC+PLC
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6. 附設
1) 供電
2) 冷卻水
3) 壓縮空氣
4) 放氣(氮氣)
5) 接地
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?AC200V±10%,φ3,50/60 Hz,50 kVA ?29 L/min, 20~28°C, 電阻率 5 kΩcm,需要壓力 0.4 MPa, 背壓 0.05 MPa
?0.4 ~0.7 MPa
?0.2 MPa放氣及低溫泵再生
?A & D (JEM,JEC)
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