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NT等離子清洗機
NT-1/-2 臺式等離子清洗機應用:
半導體IC; SMT; LCD等制造過程中表面清潔和表面改善功能.去除外表面殘留的光刻膠, 有機污染物, 溢出的環(huán)氧樹脂等; 還可以對表面的性能進行活化, 增加表面的焊接及封裝能力…. 它可以用于生產(chǎn)制造過程中, 也可以用于FA或QA實驗室中.

主要特征：
1 獨特的腔體設計；
2 提供*佳的潔凈空間和均勻的等離子分布；
3 使用友好的控制操作界面；
4 可進行菜單式操作和控制；
5 全部參數(shù)都時實地顯示在設備的屏目上：可隨時根據(jù)系統(tǒng)狀況，進行系統(tǒng)診斷和操作

NT-1 參數(shù):
尺寸(英尺): 26L X 14W X14H
重量: 120LBS
設備腔體內(nèi)部尺寸: 9W X 9H X 12L (UPTO 4 SHELVES)
發(fā)動機: 300 or 600 Watt
泵: 3.2CFM 11CFM
操作控制: 單機板控制, 無限量數(shù)據(jù)存儲; TFT 顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結(jié)果方便輸出/存儲及處理.

NT-2 參數(shù):
尺寸(英尺): 28L X 26W X26H
重量: 140LBS
設備腔體內(nèi)部尺寸:12W X 12H X 20L (UPTO 8 SHELVES)
發(fā)動機: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ
泵: 27 or 50 or 90 CFM
操作控制: 單機板控制, 無限量數(shù)據(jù)存儲; TFT顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結(jié)果方便輸出/存儲及處理.


NT-3 立式等離子清洗機

NT等離子清洗機設備應用:
半導體/集成電路；SMT；LCD行業(yè)中樣品表面清潔:去除光刻膠；去除光掩膜雜質(zhì)；有機粘污;氧化物污染及表面的灰塵等；還可能對表面進行活化；在生產(chǎn)線；FA或QA和R&D中被廣泛應用。　

等離子清洗機主要特征：

1 獨特的腔體設計；
2 提供*佳的潔凈空間和均勻的等離子分布；
3 使用友好的控制操作界面；
4 可進行菜單式操作和控制；
5 全部參數(shù)都時實地顯示在設備的屏目上：可隨時根據(jù)系統(tǒng)狀況，進行系統(tǒng)診斷

NT-3 參數(shù):
尺寸(英尺): 30L X 32W X32H
重量: 160LBS
設備腔體內(nèi)部尺寸:18W X 18H X 24L (UPTO 12SHELVES)
發(fā)動機: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ
泵: 27 or 50 or 90 CFM
操作控制: 單機板控制, 無限量數(shù)據(jù)存儲; TFT顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接,結(jié)果方便輸出/存儲及處理.