EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界**的X射線分析技術(shù)。**性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。

用途：

    掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

  技術(shù)參數(shù)：

分辨率： 3.0nm@30KV(SE and W)  4.0nm@30KV(VP with BSD) 

加速電壓：0.2—30KV 

放大倍數(shù)：7—1000000x 

探針電流：0.5PA-5μA

X-射線分析工作距離：8.5mm    35度接收角 

低真空壓力范圍：10—400Pa (LS10:10-3000Pa)

工作室：310mm(φ)×220mm(h) 

5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺(tái)：X=80mm  Y=100mm  Z=35mm  T=0-90°R=360° 

*大試樣高度：100mm，*大試樣直徑：200mm 

系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系統(tǒng)

主要特點(diǎn)：

可變壓力下操作

超大移動(dòng)平臺(tái)

快速抽真空

未來的保證，可升級為水蒸氣擴(kuò)展圖像

高亮度LaB6資源選擇

光線套選擇

 技術(shù)優(yōu)勢：

通過網(wǎng)絡(luò)可遠(yuǎn)程控制

可移動(dòng)大平臺(tái)

通用圖像處理

改進(jìn)了低真空圖像

業(yè)界**的X-射線分析技術(shù)